| 摘要 |
<p>Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelementes, bei dem auf ein Funktionselement (4) aus Polysilizium mittels LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) eine Schicht aus Oxid oder Nitrid als Schutzschicht (6) in einer Dicke von 5 nm bis 50 nm abgeschieden wird.</p> |
