| 发明名称 |
FORMATION OF LOW PERMITTIVITY INSULATING FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10150036(A) |
申请公布日期 |
1998.06.02 |
| 申请号 |
JP19960306781 |
申请日期 |
1996.11.18 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KATAYAMA TOMOKO;FUKUYAMA SHUNICHI;NAKADA YOSHIHIRO;YAMAGUCHI JO |
| 分类号 |
H01L21/768;C08G77/22;H01L21/312;H01L21/316;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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