发明名称 |
SOURCE AND DRAIN FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
|
申请公布号 |
KR0137824(B1) |
申请公布日期 |
1998.06.01 |
申请号 |
KR19940030522 |
申请日期 |
1994.11.19 |
申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD |
发明人 |
HWANG, JOON |
分类号 |
H01L21/334;(IPC1-7):H01L21/334 |
主分类号 |
H01L21/334 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|