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发明名称 METHOD OF MONITORING ION IMPLANT DEPTH
摘要
申请公布号 KR0137817(B1) 申请公布日期 1998.06.01
申请号 KR19940033490 申请日期 1994.12.09
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 CHOE, BONG-HO;MAENG, CHANG-HO
分类号 H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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