发明名称 可防止金属阻隔膜剥落之光罩
摘要 一种可防止金属阻隔膜剥落之光罩。其中,该光罩具有一光罩主体,例如玻璃或石英;复数片金属阻隔膜,形成于该光罩主体表面,用以定义该光罩之图案,其中该些金属阻隔膜之间系以空白切割道分隔;以及复数条金属连线,形成于上述空白切割道,用来连接相邻之金属阻隔膜以增加该些金属阻隔膜之有效面积。
申请公布号 TW332265 申请公布日期 1998.05.21
申请号 TW086108905 申请日期 1997.06.25
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈世雄;陈明发;赵应诚;蓝和谷
分类号 G03F9/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种可防止金属阻隔膜剥落之光罩,其包括:一光罩主体;复数片金属阻隔膜,形成于该光罩主体表面,用以定义该光罩之图案,其中该些金属阻隔膜之间系以空白切割道分隔;以及复数条金属连线,形成于上述空白切割道,用来连接相邻之金属阻隔膜以增加该些金属阻隔膜之有效面积。2.如申请专利范围第1项所述之光罩,其中上述之金属阻隔膜系以铬形成。3.如申请专利范围第1项所述之光罩,其中该光罩主体系以石英构成。4.如申请专利范围第2项所述之光罩,其中该金属连线系填满上述空白切割道之表面。5.如申请专利范围第2项所述之光罩,其中该金属连线系以桥状连接于上述金属阻隔膜间。6.如申请专利范围第1项所述之光罩,其中该金属连线系以铬形成。7.如申请专利范围第1项所述之光罩,其中该金属连线之线宽系小于0.2um。8.如申请专利范围第1项所述之光罩,其中该金属连线与该光罩之图案系同时定义于该光罩主体之表面。图示简单说明:第一图系微影制程之示意图。第二图系常用光罩之剖面图。第三A图系习知光罩内金属铬膜的布局俯视图。第三B图系习知因静电放电效应而形成之金属铬膜布局俯视图。第四图系习知技术以蒸镀金之方法防止金属铬膜剥落的光罩剖面图。第五图系习知技术在使用离子机前/后,静电电压与时间之关系。第六图系根据本发明较佳实施例中可防止金属铬膜剥落之光罩的一种金属铬膜布局俯视图。第七图系根据本发明较佳实施例中可防止金属铬膜剥落之光罩的另一种金属铬膜布局俯视图。
地址 新竹科学工业园区研新一路九号