| 发明名称 |
POSITIVE CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PRODUCTION OF RESIST IMAGE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10123712(A) |
申请公布日期 |
1998.05.15 |
| 申请号 |
JP19970210288 |
申请日期 |
1997.08.05 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
NISHIO SHIGERU;KATO KOJI;KIMURA TADAHIRO;HASHIMOTO MASAHIRO;KOIBUCHI SHIGERU;HASHIMOTO MICHIAKI |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/023;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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