发明名称 화학기상증착장치의 히터테이블(Heater Table For CVD(Chemical Vapor Deposition))
摘要 본 고안은 반도체 제조장비의 하나인 화학기상증착장치의 히터테이블에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 화학기상증착장치의 히터테이블은 웨이퍼를 지지고정하는 가이드핀이 고정되어 있어, 웨이퍼가 균일하게 증착되지 않는 문제와 함께 뒤틀림 및 파손되는 문제점이 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안은 아래 도면에 도시된 바와 같이 웨이퍼가 안착되는 안착테이블에 수개의 가이드홈을 형성하여 그 가이드홈에 상기 가이드핀을 가변되게 설치하므로써, 상기 안착테이블이 가용 온도에 따라 수축 또는 팽창하게 되어도 상기 안착테이블의 상부에 설치된 가이드핀이 가변적으로 변하게 되어 상기 웨이퍼가 한쪽으로 쏠리는 것이 방지됨과 아울러 상기 증착가스가 상기 웨이퍼에 균일하게 증착되는 효과가 발생하게 되고, 또 불활성 가스도 한쪽으로 쏠리지 않게 되어 상기 웨이퍼가 뒤틀리는 것이 방지되며, 특히 저온시에 상기 웨이퍼를 운반하는 웨이퍼 운반장치가 약간 틀어져도 상기 웨이퍼가 상기 가이드핀의 상부에 놓이지 않게 되어 상기 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있게 된다.
申请公布号 KR19980010678(U) 申请公布日期 1998.05.15
申请号 KR19960024127U 申请日期 1996.08.10
申请人 null, null 发明人 김중권
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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