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发明名称 Method for reducing the standing wave effect in a photolithography process
摘要
申请公布号 EP0740330(A3) 申请公布日期 1998.05.13
申请号 EP19960106770 申请日期 1996.04.29
申请人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED 发明人 THAKAR, GUATAM V.;GARZA, CESAR M.;CHAPMAN, RICHARD A.
分类号 G03F7/11;G03F7/09;G03F7/26;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
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