发明名称 PROCESS FOR REMOVING DEPOSITS FROM SENSITIVE SUBSTRATES AND CLEANING MEDIA USED THEREFOR
摘要 <p>Způsob odstraňování nánosů z citlivých kovových a kompozitních povrchů ošleháváním pod tlakem 69 až 1035 kPa nasyceným proudem vzduchu, obsahujícím jako ošlehávací médium částice vodorozpustného hydrogenuhličitanu vybraného ze skupiny zahrnující hydrogenuhličitany alkalických kovů a hydrogenuhličitan amonný, jehož velikost částic je v rozmezí 250 až 300 m, ve směsi s 0,2 až 3,0 % hmot. prostředku pro zlepšení tekutosti a proti spékání, tvořeného hydrofobní silikou.ŕ</p>
申请公布号 CZ283650(B6) 申请公布日期 1998.05.13
申请号 CS19900001192 申请日期 1990.03.12
申请人 CHURCH AND DWIGHT CO. 发明人 KIRSCHNER LAWRENCE
分类号 B24C1/00;B24C11/00;C01D7/00;(IPC1-7):B24C1/00 主分类号 B24C1/00
代理机构 代理人
主权项
地址