| 摘要 |
<p>Gegenstand der Erfindung ist die Erzeugung dünner metallischer Schichten und Strukturen solcher auf Substratträgern differenter Struktur. Die laterale Ausdehnung einer metallischen Schicht auf dem jeweiligen Untergrund kann mit einer Präzision im Mikrometer- und Sub-Mikrometerbereich vorgegeben werden. Mit dem beschriebenen Verfahren ist die Anfertigung ebener und räumlicher Metallstrukturen auf glatten planaren oder gekrümmten Oberflächen möglich, wie sie beispielsweise zur Abbildung von Schriftzügen oder Zeichnungen erforderlich sind. Das Verfahren verwendet keine Stempelabdruck-Techniken.</p> |
