| 主权项 |
1.一种供分配可静电喷雾物质之静电喷雾装置包含:一外壳,设有一喷嘴部份,其适合与鼻或口腔配准,并界定一通道,在使用时,可藉使用者吸气吸引空气通过此通道;以及使物质进入通道之装置,从而藉助于使用者引入经过通道之气流,产生喷雾进入鼻或口腔内;其特征为该放出装置包括一储器以找出在施配位置附近之该物质的个别量且其特征为该放出装置包括在放出物质前施加高压于该物质,由此送出之喷雾为带电颗粒之形态其在喷嘴至使用者之鼻或口腔之通道上维持带电状态且提供一装置以确保较窄幅喷雾大致朝向喷嘴部份所界定之通道之近轴向之装置。2.根据申请专利范围第1项之装置,其中放出装置包括一将予喷雾之物质源,以及供进给物质之个别量至该储器。3.根据申请专利范围第1项之装置,其中储器系由一管所构成,有一出口形成分配出口,并且个别量在管内保持在出口附近。4.根据申请专利范围第3项之装置,其中储器系由一毛细管所构成。5.根据申请专利范围第3项之装置,其中管具有一种内部构形,致使个别量之液体位于以其逆流弯液面与管之非圆柱锥形断面相接触。6.根据上述申请专利范围第1项之装置,其中分配出口在喷嘴部份前端之逆流处位于使用者吸气所引起之气流之方向。7.一种静电喷雾装置包含一储器供保留个别量之将予喷雾之液体,该储器有一出口,在使用时自其分配液体,并包含装置供施加高压至储器内之液体,致使形成喷雾之液体微粒带电,储器具有一内锥形断面,其在向出口之方向断面减小,并且该配置为致使个别量液体之后弯液面接触锥形断面。8.一种静电喷雾装置包含一储器供保留一次装填量之将予喷雾之液体,该储器有一出口,在使用时自其分配液体,供施加高压至储器内之液体之装置,致使形成喷雾之液体微粒带电,储器具有一内锥形断面,其在向出口之方向断面减小,以及供将一次装置量之液体导入储器之装置,致使个别量液体之后弯液面接触锥形断面。9.根据申请专利范围第7或第8项之装置,其中储器包含一毛细管。10.根据申请专利范围第7或第8项之装置,其中该装置包括一外壳设有一喷嘴,并且其中储器位于以其出口与喷嘴配准,并且喷嘴之前端之逆流处在喷雾之方向。11.根据上述申请专利范围第1至8项中任何一项之装置,包括确保得较窄幅喷雾大致朝向喷嘴部份所界定之通道之近轴向之装置。12.一种供分配可静电喷雾物质之静电喷雾装置包含:一外壳,设有一喷嘴部份,其适合与鼻或口腔配准,并界定一通道,在使用时,可藉使用者吸气吸引空气通过此通道;以及使物质进入通道之装置,从而藉助于使用者引入经过通道之气流,产生喷雾进入鼻或口腔内;其特征为该放出装置包括在放出物质前施加高压于该物质,由此送出之喷雾为带电颗粒之形态其在喷嘴至使用者之鼻或口腔之通道上维持带电状态且提供一装置以确保较窄幅喷雾大致朝向喷嘴部份所界定之通道之近轴向之装置。13.根据申请专利范围第1至8及12项之任何一项之装置,其中自一管分配物质,其一端形成放出物质之出口,该管端为非对称构形,致使管在一侧有一有利自其喷雾之前导端。14.一种供分配可静电喷雾物质之静电喷雾装置包含:一外壳,设有一喷嘴部份,其适合与鼻或口腔配准,并界定一通道,在使用时,可藉使用者吸气吸引空气通过此通道;以及使物质进入通道之装置,从而藉助于使用者引入经过通道之气流,产生喷雾进入鼻或口腔内;其特征为该放出装置包括在放出物质前施加高压于该物质,由此送出之喷雾为带电颗粒之形态其在喷嘴至使用者之鼻或口腔之通道上维持带电状态且提供一装置以且该物质由一管子喷出,而该管子之一端形成一出口,物质可由该出口送出,该管子之端部为非对称状,使该管子在其侧部具有一前导端,喷雾最好由该前导端送出。15.根据申请专利范围第1至8,12及14项中之任一项之装置,其中该装置系呈一种自给单元之形式,包含一适合手持或容易用一手携带之外壳。16.根据申请专利范围第1至8,12及14项中之任一项之装置,其中该配置系使欲喷雾之物质接近将向其喷雾之一物体或标的物,而使电场足够强时,方使施加之电压足以引起喷雾。17.一种供分配可静电喷雾物质之静电喷雾装置包含:一外壳,设有一喷嘴部份,其适合与鼻或口腔配准,并界定一通道,在使用时,可藉使用者吸气吸引空气通过此通道;以及使物质进入通道之装置,从而藉助于使用者引入经过通道之气流,产生喷雾进入鼻或口腔内;其特征为该放出装置包括在放出物质前施加高压于该物质,由此送出之喷雾为带电颗粒之形态其在喷嘴至使用者之鼻或口腔之通道上维持带电状态且提供一装置,其中该配置系使欲喷雾之物质接近将向其喷雾之一物体或标的物,而使电场足够强时,方使施加之电压足以引起喷雾。18.根据申请专利范围第1至8,12,14及17项中之任一项之装置,其中该物质包含一种液体配方。19.根据申请专利范围第1至8,12,14及17项中之任一项之装置,其中该物质包括一种在液体悬浮液中之固体。20.根据申请专利范围第1至8,12,14及17项中任何一项之装置,其中外加电压为正电。21.根据申请专利范围第1至8,12,14及17项中任何一项之装置,其中高压为双极性。22.根据申请专利范围第1至6,12,14及17项中之任一项之装置,其中该个别量之容量最多为50微升。23.根据申请专利范围第1至6项中任何一项之装置,其中该个别量之容量最多为20微升。24.根据申请专利范围第1至6项中任何一项之装置,其中高压为在2至15kV之范围。25.根据申请专利范围第1至6项中任何一项之装置,其中高压为在3至15kV之范围。26.根据申请专利范围第1至6项中任何一项之装置,其中高压为在4至10kV之范围。27.一种静电喷雾之方法,其中将个别量之将予喷雾之物质保持在一储器中,其有一自其排放液体之出口,以及一种向出口减小断面之内锥形构形,该量之液体以其后弯液面与锥形接触,并且其中将高压加至该个别量,致使自出口所获得之最后喷雾之微滴带电。28.一种静电喷雾之方法,包含提供一储器,有一出口及一种向出口减小断面之内锥形构形,将个别容量之液体导入储器内,致使液体之后弯液面与锥形接触,以及将高压加至液体,致使自出口所获得之最后喷雾之微滴带电。29.根据申请专利范围第27或28项中之方法,其中外加电压为正电。30.根据申请专利范围第27或28项中之方法,其中高压为双极性。31.根据申请专利范围第27或28项中之方法,其中该个别量之容量最多为50微升。32.根据申请专利范围第27或28项中之方法,其中该个别量之容量最多为20微升。33.根据申请专利范围第27至28项中之方法,其中高压为在2至15kV之范围。34.根据申请专利范围第27至28项中之方法,其中高压为在3至15kV之范围。35.根据申请专利范围第27或28项中之方法,其中高压为在4至10kV之范围。图示简单说明:第一图为示意图,示根据本发明之鼻喷雾器之一部份;第二图为分解图,示第一图中所示装置之诸组件;第三图为分解图,示形成第一图及二中所示装置之喷雾尖总成之诸组件;第四图为放大图,示喷雾尖之毛细管断面;第五图为示意图,示根据本发明之装置之另一形式;第六图为计划供多剂量应用之本发明,其另一形式之示意图;第七图为平面图,示第六图中之实施例,其喷雾尖上之液体供给通道之配置;第八图为示意图,示在喷雾尖上产生倾斜端面;第九图为示意图,示喷雾尖之加注情形;第十图为多剂量喷雾尖之示意图;以及第十一图为根据本发明之喷雾装置另一实施例之示意图;以及第十二图例示第十一图中所示喷雾装置之一种修改。 |
