SEMICONDUCTOR WAFER AND ITS MANUFACTURE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING THE SAME,申请号JP19960263409-传众专利搜索

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发明名称	SEMICONDUCTOR WAFER AND ITS MANUFACTURE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING THE SAME
摘要
申请公布号	JPH10112442(A)	申请公布日期	1998.04.28
申请号	JP19960263409	申请日期	1996.10.04
申请人	HITACHI LTD	发明人	KATO TERUO
分类号	H01L21/265;H01L21/02;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/265	主分类号	H01L21/265
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