| 发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING FINE STRUCTURE USING SACRIFICIAL LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10107339(A) |
申请公布日期 |
1998.04.24 |
| 申请号 |
JP19970182398 |
申请日期 |
1997.07.08 |
| 申请人 |
KOREA ELECTRON TELECOMMUN |
发明人 |
RI SHOHYUN;CHO GENYOKU;RI SHOSHO;HAKU SHUTAI;RYU KEISHUN |
| 分类号 |
H01L21/302;B81C1/00;H01L21/20;H01L21/306;H01L21/3065;H01L49/00;(IPC1-7):H01L49/00 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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