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发明名称 Kompensation von lithographischen und Ätznäheeffekten
摘要
申请公布号 DE69031856(T2) 申请公布日期 1998.04.16
申请号 DE1990631856T 申请日期 1990.09.19
申请人 AT&T CORP., NEW YORK, N.Y., US 发明人 EISENBERG, JULI HONG, ALLENTOWN, PENNSYLVANIA 18103, US;FRITZINGER, LARRY BRUCE, BETHLEHAM, PENNSYLVANIA 18017, US;FU, CHONG-CHENG, ALLENTOWN, PENNSYLVANIA 18104, US;KOOK, TAEHO, MACUNGIE, PENNSYLVANIA 18062, US;WOLF, THOMAS MICHAEL, LAURYS STATION, PENNSYLVANIA 18059, US
分类号 G03F1/08;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
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