| 发明名称 |
PLASMA-DEPOSITION APPARATUS FOR INSULATING FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1098033(A) |
申请公布日期 |
1998.04.14 |
| 申请号 |
JP19960271387 |
申请日期 |
1996.09.20 |
| 申请人 |
ANELVA CORP |
发明人 |
NUMAZAWA YOICHIRO;HASEGAWA SHINYA;TSUKADA TSUTOMU;TAKAHASHI NOBUYUKI |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/50;C23C16/507;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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