| 发明名称 |
Procédé d'incinération d'un résist par plasma avec prétraitement à l'oxygène. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2715742(B1) |
申请公布日期 |
1998.04.03 |
| 申请号 |
FR19940015859 |
申请日期 |
1994.12.29 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;FUJITSU VLSI LTD |
发明人 |
MIHARA SATORU;KOMADA DAISUKE |
| 分类号 |
G03F7/42;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):G03F7/42;H01L21/310;H01L21/475 |
主分类号 |
G03F7/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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