发明名称 Vertical semiconductor device controllable by field effect
摘要 Die Erfindung betrifft ein durch Feldeffekt steuerbares, vertikales Halbleiterbauelement, bestehend aus einem Halbleiterkörper (1) mit mindestens einer Drainzone (2, 8) vom ersten Leitungstyp, mit mindestens einer Sourcezone (3, 3') vom ersten Leitungstyp, mit mindestens einer Gate-Elektrode (4), wobei diese gegenüber dem gesamten Halbleiterkörper (1) durch ein Gateoxid (14) isoliert ist, mit einem Bulkbereich (10) vom ersten Leitungstyp, wobei, sich der Sourceanschluß (S) an der Scheibenrückseite (12) befindet, und der Drainanschluß (D) und der Gateanschluß (G) sich an der Scheibenvorderseite (11) befinden. <IMAGE>
申请公布号 EP0833386(A1) 申请公布日期 1998.04.01
申请号 EP19970113580 申请日期 1997.08.05
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 TIHANYI, JENOE
分类号 H01L29/417;H01L29/423;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/417;H01L29/08;H01L23/367 主分类号 H01L29/417
代理机构 代理人
主权项
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