Erzeugung von gebrauchsfertigen Lösungen

摘要

Das Verfahren zur direkten Herstellung von Reinigungslösungen für die Halbleiterherstellung ist dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungslösungen durch Mischen eines Gases mit hochreinem Wasser direkt am Ort der Verwendung erzeugt werden, wobei ein statisches Mischersystem eingesetzt wird. Zugemischt wird mindestens eines der Gase NH¶3¶, HCl, Ozon oder HF.