发明名称 | 等离子体蚀刻设备和用这种设备制造的液晶显示模块 | ||
摘要 | 本发明介绍了一种等离子体蚀刻设备,它可以防止用于等离子体蚀刻的在LCD玻璃母基底上构图的光致抗蚀剂被灼伤。该设备包括一阴极电极保护盖,它安装在阴极电极的边缘部位,用于向LCD玻璃母基底提供RF源和冷却LCD玻璃母基底。阴极电极保护盖的上表面比阴极电极的上表面高。因此,阴极电极可以与LCD玻璃母基底接触。结果,可以预先防止LCD玻璃母基底的冷却效率差的问题,并且光致抗蚀剂不会灼伤。 | ||
申请公布号 | CN1246724A | 申请公布日期 | 2000.03.08 |
申请号 | CN99118090.9 | 申请日期 | 1999.08.25 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 朴昌勋 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
主权项 | 1、一种等离子体蚀刻设备,包括:一等离子体室,LCD玻璃母基底在其内通过等离子体蚀刻;一阳极,形成于所述等离子体室的相对侧;一阴极,它包括: 一可导电转动轴,它可转动地安装在所述等离子体室内; 一绝缘体,它形成于所述转动轴上; 一阴极电极,形成于所述绝缘体的上、下表面上,位于所述阳极的对面,并且与所述转动轴电连接; 一阴极电极保护盖,用于覆盖没有被装在所述阴极电极上的LCD玻璃母基底盖住的所述阴极电极的边缘部分;和 一夹持装置,用于将所述LCD玻璃母基底夹紧在所述阴极电极上;一RF源提供装置,用于为所述阴极的转动轴提供RF源;一源气体提供装置,用于为所述等离子体室提供源气体;和一排气装置,用于排出残余气体和废气体,其中,当所述阴极电极保护盖和所述阴极电极连接时,所述阴极电极保护盖的高度大于所述阴极电极的高度。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |