| 发明名称 |
PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1081972(A) |
申请公布日期 |
1998.03.31 |
| 申请号 |
JP19960234083 |
申请日期 |
1996.09.04 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
MORITA SHOJI;NISHIDA SEIICHI;AOI TATSUFUMI;MURATA MASAYOSHI;HASHIMOTO AKIRA |
| 分类号 |
C23C16/50;H01L21/205;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):C23C16/50 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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