| 主权项 |
1.一种真空处理装置,系包括有:至少一转移室,系充满气体以具有一目标压力范围的上限;一气体供应系统,系连接一气体供应源以将该气体供应到该转移室内;一气体排放系统,系用于从该转移室内释放气体;至少二个真空室,系包括有一第一真空室及一第二真空室并且连接该转移室;至少二个闸阀,系介于该转移室及该等真空室之间,并包括有第一闸阀系选择性地让该转移室与该第一真空室彼此连通,及一第二闸阀系选择性地让该转移室与该第二真空室彼此连通;一转移机构,系用于把所要处理的标的物从该第一真空室经过该第一闸阀转移到该转移室,并且把该标的物从该转移室经过该第二闸阀转移到到该第二真空室;该气体供应系统包括有一开/关阀,用以选择性的把该气体从该气体供应源供应到该转移室内,并且在该开/关阀的上游定义有一气体装填空间,以在该开/关阀关闭时,容许具有依据一目标压力的上限设定体积及压力的气体储存在该气体装填空间内;及多数控制装置,用以开启该开/关阀,把储存在该气体装填空间内的气体供应到该转移室内,以将该转移室的内部压力增加到该目标压力的上限。2.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中该气体供应系统包括有一流量率控制阀,用以控制从该气体供应源供应到该转移室内之气体的流量率,该流量率控制阀系介于该气体供应源及该开/关阀之间,并且该气体装填空间系定义在该流量率控制阀与该开/关阀之间。3.如申请专利范围第2项所述之真空处理装置,其中该气体供应系统包括有一气体装填室,系介于该气体供应源与该开/关阀之间,该气体装填室构成该气体装填空间的一部份。4.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中当该标的物系藉由该转移机构从该第一真空室转移到该转移室的时候以及当该第一及第二闸阀被关闭的时候,该等控制装置系容许该开/关阀关闭。5.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中当该第一及第二闸阀及该开/关阀关闭的时候以及当该转移室于该标的物已经被转移进入后藉由该气体排放系统排气到该目标压力范围之下限的时候,该等控制装置系容许该开/关阀开启,以把该转移室的内部压力提升到一目标压力范围的上限。6.如申请专利范围第5项所述之真空处理装置,其中更包括有用于保持该转移室之内部压力在该目标压力范围之上限直到该第二闸阀开启之装置。7.如申请专利范围第6项所述之真空处理装置,其中当该第二闸阀关闭时,该目标压力之上限系等于或高于该第二真空室之内部压力。8.如申请专利范围第7项所述之真空处理装置,其中该目标压力的上限系为66.7Pa或更低。9.如申请专利范围第5项所述之真空处理装置,更包括有一压力感测器,用以侦测该转移室的内部压力已经低至该目标压力范围的下限,该感测器提供一表示侦测该目标压力范围之下限的电讯号给该等控制装置,以允许该等控制装置开启该开/关阀。10.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,更包括有用以将储存在该气体装填空间内之气体之温度维持在定値之装置。11.一种真空处理装置,系包括有:至少一转移室,系充满气体以具有一第一目标压力范围的上限,或具有一第二目标压力范围的上限;一气体供应系统,系连接一气体供应源以将该气体供应到该转移室内;一气体排放系统,系用于从该转移室内释放气体;至少三个真空室,系包括有一第一真空室、一第二真空室及一第三真空室,都连接到该转移室;至少三个闸阀,系介于该转移室及该等真空室之间,并包括有一第一闸阀系选择性地让该转移室与该第一真空室彼此连通,一第二闸阀系选择性地让该转移室与该第二真空室彼此连通,及一第三闸阀系选择性地让该转移室与该第三真空室彼此连通;一转移机构,系用于把所要处理的标的物从该第一真空室经过该第一闸阀转移到该转移室,用于把该标的物从该转移室经过该第二闸阀转移到到该第二真空室,并且用于把该标的物从该第二真空室经过该转移室转移到该第三真空室;该气体供应系统包括有多数个包括有第一及第二分歧供应系统的分歧供应系统,每一个分歧供应系统包括有一开/关阀,用以选择性的把该气体从该气体供应源供应到该转移室内,一气体装填空间系定义在该开/关阀的上游,以在该开/关阀关闭时,容许具有依据一目标压力范围上限设定体积及压力的气体储存在该气体装填空间内;及多数控制装置,当该标的物从该第一真空室转移到该转移室的时候,用于开启包括在该第一分歧系统内之该开/关阀,把储存在定义于该第一分歧系统上游之该气体装填空间内的气体供应到该转移室内,以将该转移室的内部压力增加到该第一目标压力的上限,以及当该标的物从该第二真空室转移到该转移室的时候,用于开启包括在该第二分歧系统内之该开/关阀,把储存在定义于该第二分歧系统上游之该气体装填空间内的气体供应到该转移室内,以将该转移室的内部压力增加到该第二目标压力的上限。12.如申请专利范围第11项所述之真空处理装置,其中该气体供应系统包括有一安排在该分歧供应系统与该气体供应源之间的调整器、以及一介于该分歧供应系统与该转移室之间的共用管线。13.如申请专利范围第11项所述之真空处理装置,其中该第一目标压力的上限系不同于该第二目标压力的上限。14.如申请专利范围第11项所述之真空处理装置,其中每一个该第一及第二分歧供应系统系包括有一流量率控制阀,用以控制从该气体供应源供应到该转移室内之气体的流量率,该流量率控制阀系介于该气体供应源及该开/关阀之间,该气体装填空间系定义在该流量率控制阀与该开/关阀之间,并且包括于该第一及第二分歧系统内的该等流量率控制阀系单独地被控制。15.一种真空处理装置,系包括有:一转移室,系充满气体以具有一目标压力范围的上限;气体供应系统,系包括一气体装填空间,用以储存依据该目标压力范围上限设定体积及压力的气体,并且用于把储存在该气体装填空间内的气体立即供应到该转移室内;一气体排放系统,系用于从该转移室内释放气体,以把该转移室的内部压力降低到等于该目标压力范围下限的程度;及一真空室,系能够选择地与该转移室连通,并且具有符合该目标压力范围上限的内部压力,在该气体装填空间内的压力P2系由该公式来表示:P2={V1(P-P1)}/V2其中V1是该转移室的容积,P是在该转移室内之目标压力范围的上限,P1是在该转移室内之目标压力范围的下限,及V2是该气体装填空间的容积。图式简单说明:第一图系表示本发明第一实施例之真空处理装置的示意图;第二图系表示包括在第一图所示之真空处理装置中之气体供应系统及气体排出系统的示意图;第三图系用于叙述本发明第一实施例之真空处理装置的图表;第四图系表示包括在本发明第二实施例之真空处理装置中之气体供应系统的示意图;及第五图系表示用于本发明之气体供应系统之更详细的示意图。 |
