从制程真空系统之缓冲槽排放液体之装置

摘要

一种从制程真空系统之缓冲槽排放液体之装置。此排放液体装置包括一透明之密闭贮槽，其底部具有开口与缓冲槽底部之排放阀连接，并在其上方具有另一开口与缓冲槽上方之开口连接并具有一连通至大气之开口。使用本创作之装置可自缓冲槽中容易地将液体排出，而不使系统之压力产生变化,因而不会造成制程设备操作条件之不稳定。且在排放液体时不必停止整个真空系统，因而可维持制程设备稳定之生产。另外，可随时检查缓冲槽中之液体之液位高度以便及时进行液体之排放。

主权项

1.一种从制程真空系统之缓冲槽排放液体之装置,其中该缓冲槽为一密闭之槽设置在该真空系统之上游与制程设备之间以贮存由该制程设备送来之液体,该缓冲槽具有一第一开口及一第二开口及一排放阀从该第二开口排放液体;该排放液体之装置包括:一密闭贮槽具有设置在其上方之第三开口及第五开口及设置在其底部之第四开口;一第一阀设置在该缓冲槽之第一开口及该密闭贮槽之第三开口之间;一第二阀设置在该密闭贮槽之第四开口与排放口之间以便自该密闭贮槽排放液体;及一第三阀设置在该密闭贮槽之第五开口并连通于大气;因而当该密闭贮槽之第二阀及第三阀关闭而该缓冲槽之排放阀及该密闭贮槽之第一阀打开时该缓冲槽中之液体流至该密闭贮槽,而当该缓冲槽之排放阀及该密闭贮之第一阀关闭,而该密闭贮槽之第二阀及第三阀打开时,该密闭贮槽中之液体被排放出。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该密闭贮槽乃由透明材质制成者。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该密闭贮槽乃装设有一液位计者。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该真空系统包括三真空泵者。图式简单说明:第一图为显示在半导体制程中一缓冲槽设置在真空泵系统与制程设备间之示意图;及第二图为显示本创作之从制程真空系统之缓冲槽排放液体之装置之示意图。