| 发明名称 |
MANUFACTURE OF INSULATING LAYER ACTING AS INTERMETAL DIELECTRIC |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1079433(A) |
申请公布日期 |
1998.03.24 |
| 申请号 |
JP19970219250 |
申请日期 |
1997.07.30 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
GABRIC ZVONIMIR;SPINDLER OSWALD;GRASSL THOMAS |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
