| 发明名称 |
Plasma processing method and apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG47090(A1) |
申请公布日期 |
1998.03.20 |
| 申请号 |
SG19960006453 |
申请日期 |
1996.03.20 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KUDO KATSUYOSHI;KANEKIYO TADAMITSU;SATOU YOSHIAKI |
| 分类号 |
H01J37/32;(IPC1-7):H01L21/306;C23C16/00 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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