| 主权项 |
1.一种滤色器,其特征为具有透明基板、于此透明基板上以喷墨方式将复数颜色以指定图型设置的画素部、及用以形成前述画素部所设置,至少由光触媒及粘合剂所构成,且为经由照射能量令与液体之接触角降低地变化可湿着性之光触媒含有层所构成,前述之光触媒含有层为含氟,且对于前述光触媒含有层照射能量时,经由前述光触媒之作用,令前述光触媒含有层表面之氟含量为比能量照射前降低地形成前述之光触媒含有层。2.如申请专利范围第1项之滤色器,其为于前述透明基板上形成前述之光触媒含有层,并于此光触媒含有层上设置前述之画素部。3.如申请专利范围第2项之滤色器,其中前述画素部间之距离为2m以下。4.如申请专利范围第2项之滤色器,其为于前述画素部之边界部分的前述光触媒含有层上,形成拨墨性凸部。5.如申请专利范围第1项之滤色器,其为于前述透明基板上形成画素部,并于此画素部之边界部分设置前述之光触媒含有层。6.如申请专利范围第5项之滤色器,其中前述透明基板上之可湿着性,为与表面张力40mN/m液体之接触角为未满10度。7.如申请专利范围第1项之滤色器,其中对前述光触媒含有层上进行能量照射,令氟含量降低部位中的氟含量,于视未照射能量部位之氟含量为100时,为10以下。8.如申请专利范围第1至7项中任一项之滤色器,其中前述之光触媒为由氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、钛酸锶(SrTiO3)、氧化钨(WO3)、氧化铋(Bi2O3)、及氧化钛(Fe2O3)中选出一种或二种以上之物质。9.如申请专利范围第8项之滤色器,其中前述光触媒为氧化钛(TiO2)。10.如申请专利范围第9项之滤色器,其为具有前述光触媒含有层表面之氟含量,若以X射线光电子分光法予以分析定量化,则于Ti元素视为100时,以氟元素为500以上之比率令光触媒含有层表面含有氟元素之光触媒含有层。11.如申请专利范围第8项之滤色器,其中前述粘合剂为具有氟烷基的有机基聚矽氧烷。12.如申请专利范围第8项之滤色器,其中前述粘合剂为YnSiX(4-n)(此处,Y为表示烷基、氟烷基、乙烯基、胺基、苯基或环氧基,X为表示烷氧基或卤素。n为0-3之整数)所示之矽化合物的1种或2种以上之水解缩合物或共同水解缩合物的有机基聚矽氧烷。13.如申请专利范围第12项之滤色器,其中构成前述有机基聚矽氧烷之前述矽化合物内,含有氟烷基之矽化合物为被含有0.01莫耳%以上。14.如申请专利范围第8项之滤色器,其中前述光触媒含有层上之与表面张力40mN/m液体的接触角,于未照射能量部分为10度以上,于照射能量部分为未满10度。15.如申请专利范围第8项之滤色器,其中前述以喷墨方式所着色之画素部,为以使用UV硬化性油墨之喷墨方式所着色的画素部。16.一种滤色器之制造方法,其特征为包含(1)于透明基板上设置经由能量照射令照射部分之可湿着性为在与液体接触角降低之方向上变化之光触媒含有层之工程、(2)于前述透明基板上所设置之形成光触媒含有层上之画素部部位之画素部形成部,以能量照射图型、形成画素部用曝光部之工程,(3)于此画素部用曝光部以喷墨方式着色,形成画素部之工程;前述光触媒含有层上之与表面张力40mN/m液体的接触角,于未照射能量部分为10度以上,于照射能量部分为未满10度。17.如申请专利范围第16项之滤色器之制造方法,其中形成前述画素部用曝光部后,于此处以喷墨方式着色形成画素部之工程为包含(a)对前述光触媒含有层上之形成画素部部位之画素部形成部之一部分,以能照射图型并且形成第1画素部用曝光部之工程、(b)对此第1画素部用曝光部以喷墨方式着色,形成第1画素部之工程、(c)令前述光触媒含有层上之形成剩余画素部部位之画素部形成部进行曝光并形成第2画素部用曝光部之工程、及(d)对此第2画素部用曝光部以喷墨方式着色,形成第2画素部之工程。18.如申请专范围第16项之滤色器之制造方法,其为在形成前述画素部用曝光部前,形成用以形成拨墨性凸部之凸部用曝光部,并于此凸部用曝光部中使用树脂组成物形成拨墨性凸部。19.如申请专利范围第18项之滤色器之制造方法,其为在前述画素部之间,形成前述拨墨性凸部。20.一种滤色器之制造方法,其特征为包含(1)将透明基板上经由能量照射之照射部分的可湿着性为在与液体接触角降低之方向上变化之光触媒含有层,设置于形成画素部部位之画素部形成部之边界部分之工程、(2)于前述透明基板上之画素部形成部中,形成画素部之工程。21.如申请专利范围第20项之滤色器之制造方法,其中前述透明基板上之可湿着性,为与表面张力40mN/m液体之接触角为未满10度。22.如申请专利范围第16至21项中任一项之滤色器之制造方法,其中前述画素部用曝光部以喷墨方式之着色,为以使用UV硬化性油墨之喷墨方式予以着色。23.一种液晶面板,其特征为具有申请专利范围第1至7项中任一项之滤色器、与其对向且设置遮光部之基板,并且于两基板间封入液晶化合物所构成。图式简单说明:图1为示出本发明第1实施态样之滤色器之一侧的概略截面图。图2为示出本发明第1实施态样之滤色器之其他例的概略截面图。图3为示出本发明第2实施态样之滤色器之一例的概略截面图。图4A至4D为说明本发明第3实施态样之滤色器之制造方法的工程图。图5A至5E为说明本发明第3实施态样之滤色器之制造方法之其他例的工程图。图6A、6B为图5所示之制造方法中,示出第1画素部及第2画素部的概略平面图。图7A-1至7D-2为示出本发明滤色器制造方法中所用之光罩物例之概略平面图。图8A至8E为说明本发明第3实施态样之滤色器之制造方法之其他例的工程图。图9A至9D为说明本发明第4实施态样之滤色器之制造方法的工程图。 |
