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发明名称 Verfahren zum Betrieb einer Plasmabearbeitungseinrichtung
摘要
申请公布号 DE4107753(C2) 申请公布日期 1998.03.19
申请号 DE19914107753 申请日期 1991.03.11
申请人 FUJI ELECTRIC CO., LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 OHIWA, KIYOSHI, TOKIO/TOKYO, JP
分类号 H05H1/46;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/203;C23F4/04 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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