Verfahren zur selektiven elektrochemischen Behandlung von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens,申请号DE1996112555-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Verfahren zur selektiven elektrochemischen Behandlung von Leiterplatten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
摘要
申请公布号	DE19612555(C2)	申请公布日期	1998.03.19
申请号	DE1996112555	申请日期	1996.03.29
申请人	ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH, 10553 BERLIN, DE	发明人	SCHROEDER, ROLF, 90559 BURGTHANN, DE;SCHNEIDER, REINHARD, 90556 CADOLZBURG, DE;KOPP, LORENZ, 90518 ALTDORF, DE;RYDLEWSKI, THOMAS, 90439 NUERNBERG, DE;STEFFEN, HORST, DR., 47608 GELDERN, DE
分类号	H05K3/06;C25D5/02;C25D5/06;C25D17/10;C25F7/00;H05K3/07;H05K3/24;(IPC1-7):C25D17/28;C25D7/00	主分类号	H05K3/06
代理机构		代理人
主权项
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