发明名称 气体纯化系统
摘要 一种气体纯化系统,藉此可以将污染物质有效的移除。此气体纯化系统包括一个水喷洒系统与一个收集装置,收集装置装设在水喷洒系统的邻近区域,收集装置的表面是由一种电子放射材料制成,可以利用可见光、紫外线或电能放射出电子,水性的污染物质与漂浮的粉尘可以利用微小的水滴率先被去除,然后有机与非水性的污染物质会接着被具有电子的水滴之交互作用给移除。
申请公布号 TW506851 申请公布日期 2002.10.21
申请号 TW090102341 申请日期 2001.02.05
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 黄正性;金兑壕;李顺荣;崔载兴
分类号 B01D53/32 主分类号 B01D53/32
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种气体纯化装置,包括:一水喷洒系统;以及一收集装置,系装设在该水喷洒系统之一邻近区域,该收集装置之一表面系由一电子放射材料制成,可以利用可见光、紫外线或电能放射出电子。2.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中该水喷洒系统包括一水洗系统(WSS),且进一步包括一消除器介于该水喷洒系统与该收集装置之间,该消除器系用于喷洒水滴,而含有污染物质之喷洒水滴会被消除器收集然后掉落。3.如申请专利范围第2项所述之气体纯化装置,其中该消除器系由复数个排列的平板组成,该些平板由多孔的塑胶或是多孔的不锈钢做成。4.如申请专利范围第2项所述之气体纯化装置,其中进一步包括一碰撞板介于该水喷洒系统与该消除器之间,藉以将喷洒的水滴分成更小的水滴。5.如申请专利范围第2项所述之气体纯化装置,其中该水喷洒系统包括复数个喷嘴排列成一列。6.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中该电子放射材料系选自氧化锌、硫化镉、三氧化钨与二氧化钛其中之一。7.如申请专利范围第6项所述之气体纯化装置,其中该电子放射材料进一步包括亚铁或矽。8.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中该收集装置系由复数个具有一预定距离之收集板排列集合而成,该些收集板系由该电子放射材料制成,或是该收集装置涂布有该电子放射材料。9.如申请专利范围第8项所述之气体纯化装置,其中该收集板为一多孔平板,其中具有复数个孔洞,系为一由交错线组成方格状之网状平板,或一由弯曲线组成六角形之蜂巢状的平板。10.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中该水喷洒系统为一湿润器。11.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中该收集装置进一步包括一电能供应器。12.如申请专利范围第1项所述之气体纯化装置,其中进一步包括一紫外线灯泡与一紫外线光电子放射材料,利用该紫外线灯泡可以由该紫外线光电子放射材料放射出光电子,该紫外线灯泡与该紫外线光电子放射材料系放置于该水喷洒系统与该收集装置之间。13.如申请专利范围第12项所述之气体纯化装置,其中该紫外线光电子放射材料系由石英玻璃、氧化锡铟(ITO)、氧化锌、硫化镉、三氧化钨与二氧化钛其中之一制成。14.如申请专利范围第12项所述之气体纯化装置,其中该收集装置进一步包括一电能供应器。15.一种气体纯化装置,包括:一水喷洒装置;一碰撞板,用以将自该水喷洒系统喷洒之水滴分成更小的水滴;一多孔板状消除器,藉其将来自该碰撞板之该些水滴与含有污染物质的水滴碰撞在一起并掉落;一收集装置,位于该水喷洒装置之一邻近区域,系由可利用可见光、紫外线或电能放射出电子之一电子放射材料制成,且至少涂布有氧化锌、硫化镉、三氧化钨与二氧化钛等化合物其中之一,该收集装置系由复数个收集板以一预定距离排列集合而成;以及一电能供应器,以供应一电能到该收集装置上。16.如申请专利范围第15项所述之气体纯化装置,其中该收集板为一多孔平板,其中具有复数个孔洞,系为一由交错线组成方格状之网状平板,或一由弯曲线组成六角形之蜂巢状的平板。17.如申请专利范围第15项所述之气体纯化装置,其中进一步包括一紫外线灯泡与一紫外线光电子放射材料,利用该紫外线灯泡可以由该紫外线光电子放射材料放射出光电子,该紫外线灯泡与该紫外线光电子放射材料系放置于该水喷洒系统与该收集装置之间。18.如申请专利范围第15项所述之气体纯化装置,其中该紫外线光电子放射材料系由石英玻璃、氧化锡铟(ITO)、氧化锌、硫化镉、三氧化钨与二氧化钛其中之一制成。图式简单说明:第1A图与第1B图绘示为习知的一种水洗系统(WSS),其中第1A图为其侧视图,第1B图为其延第1A图之线段A-A'横剖面之上视图;第2A图至第2C图所示为根据本发明第一实施例之一种气体纯化系统的装置简示图,其中第2A图为其侧视图,第2B图为其延第2A图之线段B-B'横剖面之上视图,而第2C图为一收集器之前视图的部分放大图;第3A图与第3B图为利用习知的水洗系统(第3A图)与本发明之第一实施例中的气体纯化系统(第3B图)之臭氧移除效率的图表;第4图绘示为依照本发明第二实施例的一种气体纯化系统之装置侧视图;以及第5A图与第5B图绘示为根据本发明第三实施例之一种气体纯化系统,其中第5A图为其侧视图,而第5B图为其第5A图的局部放大图。
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