| 发明名称 | 半导体器件的清洗装置 | ||
| 摘要 | 一种半导体器件的清洗装置包括浴槽,于其中对圆片进行清洗;以及清洗液喷射管,安装于该浴槽的底部用于通过在其表面上以相同的间隔形成的多个规定尺寸的孔喷射清洗液,该喷管的一端连接于清洗液供给管而喷管的另一端已被密封,其特征是,该溶液流通的孔面积从清洗液流过该喷管的一端到已密封的另一端是逐渐减小的,使得能以均匀的压力喷射溶液。 | ||
| 申请公布号 | CN1176485A | 申请公布日期 | 1998.03.18 |
| 申请号 | CN97116045.7 | 申请日期 | 1997.08.15 |
| 申请人 | LG半导体株式会社 | 发明人 | 韩石彬;许允 |
| 分类号 | H01L21/30 | 主分类号 | H01L21/30 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 黄敏 |
| 主权项 | 1.一种半导体器件的清洗装置，该装置包括：一个浴槽，于其中对圆片进行清洗；以及一个清洗液喷射管，安装于该浴槽的底部用于通过在其表面上以相同的间隔形成的多个规定尺寸的孔喷射清洗液，该喷管的一端连接于清洗液供给管而喷管的另一端被密封，其中，该溶液流通的孔面积从通过引入清洗液的喷管的一端到已密封的另一端是逐渐减小的，使得能以均匀的压力喷射溶液。 | ||
| 地址 | 韩国忠清北道 | ||