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发明名称
混合研磨剂抛光组合物及使用彼等之方法
摘要
本发明系提供一种抛光组合物,其包含(i)一种研磨剂,其包含(a)5至45重量%Mohs硬度为8或更大之第一研磨剂粒子,(b)1至45重量%三维结构中含有较小原始粒子集结物之第二研磨剂粒子,及(c)10至90重量%包含矽石之第三研磨剂粒子,和(ii)液体载剂。本发明也提供一种抛光基板之方法,该方法包含(i)提供上述抛光组合物,(ii)提供具有一表面之基板,并(iii)以该抛光组合物磨耗至少一部分基板表面以抛光该基板等步骤。
申请公布号
TW200422365
申请公布日期
2004.11.01
申请号
TW093102924
申请日期
2004.02.09
申请人
卡博特微电子公司
发明人
俄提那夫N 倩亚洛;桑 塔
分类号
C09G1/02
主分类号
C09G1/02
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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