发明名称 带有杂芳族基团的酯光敏引发剂
摘要 化学式I,II,III及IV之化合物092133880-p00.bmp,其中,Ch1系,例如,092133880-p01.bmp或092133880-p02.bmp;Ch2系092133880-p03.bmp或092133880-p04.bmp;Het1系,例如,喃基,嗯基,咯基,啶基,苯并嗯基,基或双嗯基;每一者系选择性地被取代;Het2及Het2‘系,例如,伸喃基,伸嗯基,伸咯基,伸苯并嗯基,伸基,伸喃基羰基,伸嗯基羰基,伸苯并嗯基羰基或伸双嗯基羰基;每一者系选择性被取代;Ar1及Ar1’彼此个别系苯基,基,苯甲醯基或甲醯基,每一者系选择性地被取代;Ar2系,例如,伸苯基,选择性地被取代;M彼此个别系系C1–C20伸烷基;R1系,例如,C1–C12烷基或苯基; R2及R2’系,例如,氢或C1–C20烷基;于光聚合反应中展现不可预期之良好性能。
申请公布号 TW200422296 申请公布日期 2004.11.01
申请号 TW092133880 申请日期 2003.12.02
申请人 席巴特制品化学股份有限公司 发明人 田边纯一;久良久敏;冈秀隆;大轮正树
分类号 C07D403/06 主分类号 C07D403/06
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 瑞士