| 主权项 |
1.一种靶具结构改良,包括:一底座,其上成型一定位槽;一支撑件,系插设于该底座之定位槽上;一定位架,系设于该支撑件上且制成概呈V型状架体,并于该V型状架体内侧成型有一两端部皆开放之导槽,该导槽断面概呈U型;一靶板,系可拆卸地装设于该定位架之导槽上,且靶板成型有数个预设孔径之穿孔;以及数个靶块,系可击落且重复使用地装设于该靶板之穿孔。2.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该定位架系能另制有一套合槽与该支撑件套合。3.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该底座另成型有一填充空间,且该填充空间上开设一填充口用以充填任何物体以增添底座之重量。4.如申请专利范围第3项所述之靶具结构改良,其中该底座系能充填水做为流体以增添底座之重量。5.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该定位架系能充填沙粒等混合物做为流体以增添底座之重量。6.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该靶板之靶块系能涂上花样或数字等用以做为竞赛的标示。7.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该靶板之穿孔系可制成大小相同之孔径。8.如申请专利范围第1项所述之靶具结构改良,其中该靶板之穿孔位置系能以等距间隔排列而成。图式简单说明:第1图为本创作之组装示意图。第2图为本创作分解图。第3图为本创作定位架立体图。第4图为本创作另一实施例组装示意图。第5图为本创作支撑件与定位架组合剖视图。 |
