| 主权项 |
1.一种印章端面之凹凸结构改良,主要系形成于印章之一端面,包含:一第一凹凸雕刻结构,具有一凹凸饰体部;以及一第二凹凸雕刻结构,系形成于前述之第一凹凸结构中心位置,具有数凹凸单字体及至少一条凹凸线条,该凹凸线条系设置于前述之第一凹凸雕刻结构与第二凹凸雕刻结构之间。2.如申请专利范围第1项所述之印章端面之凹凸结构改良,其中,第一凹凸雕刻结构具有一设于凹凸饰体部外周缘之凹凸外框线。3.如申请专利范围第1项所述之印章端面之凹凸结构改良,其中,凹凸饰体部系由凹凸的符号相互配合构成。4.如申请专利范围第1项所述之印章端面之凹凸结构改良,其中,凹凸饰体部系由凹凸的字体相互配合构成。图式简单说明:第一图所示系本创作之较佳实施例之俯视图。第二图所示系本创作之类似于较佳实施例的凹凸饰体部之俯视图。第三图所示系本创作之类似于较佳实施例的凹凸饰体部之俯视图。 |
