圆锥形靶用磁铁构造

摘要

本创作系有关于一种「圆锥形靶用磁铁构造」之新式样设计，系供安装于半导体元件材料层溅散沉积设备之电浆蒸汽沉积室内者。如图所示者：本创作之外观大致近漏斗形状，由第三图观之，上唇部的周缘往下向下微扩一小段高度后即改向内收缩。由第一图观之，上唇部四周由多数根圆柱体所围成，上缘表面有多数个小圆孔分两圈规则排列。由第四、五图观之，其底部偏向前侧，并非倚在正，并有锁固用孔洞。整体而言，本创作造形相当美观大方、且式样新颖具创作性，实为一特殊且实用之产品设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容；理应明了，新式样系就其整体形状、花纹、或色彩指定之，且系以申请专利范围所界定者为准。

主权项

一种如图所示「圆锥形靶用磁铁构造」之形状者 。图示简 单说明:第一图所示系本创作之立体图;第二图所 示系本 创作之前视图;第三图所示系本创作之后视图;第 四图所 示系本创作之右侧视图;第五图所示系本创作之左 侧视图 ;第六图所示系本创作之俯视图;以及第七图所示 系本创 作之仰视图。