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发明名称
矽晶圆之热处理方法
摘要
本发明提供一种矽晶圆之热处理方法,其系于矽晶圆的RTP处理,抑制滑移位错之热处理方法,为防止至少在矽晶圆与急速加热装置之支持部接触之部位及矽晶圆之最外周部之任一部位,在于急速加热过程产生滑移位错,于超过700℃未满950℃之范围之温度范围,设停止升温10秒以上之步骤。
申请公布号
TW200818329
申请公布日期
2008.04.16
申请号
TW096130836
申请日期
2007.08.21
申请人
SUMCO TECHXIV股份有限公司
发明人
中村浩三;志村诚一;中岛朋子
分类号
H01L21/324(2006.01);H01L21/322(2006.01)
主分类号
H01L21/324(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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