| 发明名称 |
FORMATION OF CONTACT HOLE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1065000(A) |
申请公布日期 |
1998.03.06 |
| 申请号 |
JP19960220220 |
申请日期 |
1996.08.21 |
| 申请人 |
NITTETSU SEMICONDUCTOR KK |
发明人 |
TAKI MASUYUKI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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