| 发明名称 |
CLEANING METHOD AND CLEANER FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1064866(A) |
申请公布日期 |
1998.03.06 |
| 申请号 |
JP19960222452 |
申请日期 |
1996.08.23 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
HAYAMI YUKA;SUZUKI YOSHINORI;OGAWA HIROTERU;FUJIMURA SHUZO |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
