液处理装置、液处理方法、电脑程式以及记忆媒体

摘要

将清洗处理所需要的时间缩短，并提升半导体晶圆或是液晶基板等之制造的生产率。在本发明中，于清洗处理时，系以使从清洗液之液面位置（LV1）起到被处理体（晶圆2）之上端位置（LV2）为止的距离（L1），成为较从药液处理时之药液的液面位置（LV3）起直到被处理体（晶圆2）之上端位置（LV4）为止的距离（L2）为更短的方式，来运送被处理体。或者是，于清洗处理时，系以使从清洗液之液面位置（LV1）起到被处理体（晶圆2）之上端位置（LV2）为止的距离（L1），成为较从清洗液的底面位置（LV5）起直到被处理体（晶圆2）之下端位置（LV6）为止的距离（L3）为更短的方式，来运送被处理体。