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经营范围
发明名称
Verfahren zur Herstellung von metallisierten Löchern in dielektrischen Substraten mit untereinander verbundenen Dünnschichtleiter- und/oder Widerstandsbahnen
摘要
申请公布号
DE69408298(D1)
申请公布日期
1998.03.05
申请号
DE19946008298
申请日期
1994.10.27
申请人
ITALTEL S.P.A., MILANO, IT
发明人
BERTOLOTTI, MASSIMO, I-20060 GORGONZOLA (MILANO), IT;CARCANO, GIORGIO, I-20043 ARCORE (MILANO), IT;CARMINATI, ANNA, I-24042 CAPRIATE S. GERVASIO (BERGAMO), IT;CERIANI, MAURIZIO, I-20157 MILANO, IT
分类号
H01L21/70;H05K1/16;H05K3/10;H05K3/38;H05K3/40;H05K3/42;(IPC1-7):H05K3/42
主分类号
H01L21/70
代理机构
代理人
主权项
地址
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