发明名称 荫罩的制造方法、荫罩的制造装置及其所用的清洗装置
摘要 根据本发明的清洗装置具有:清洗部(121),具有气穴喷射装置,在保持基本水平的状态,在沿纵向输送的带状金属薄板的上面及下面,喷出对该带状金属薄板是惰性的清洗液,在上述金属薄板的表面附近发生气穴,进行急速的清洗;第1防漏密封部(124),设置在所述清洗部的前段,制约该金属薄板的位置,而且防止所述清洗液在与该金属薄板输送方向相反方向漏出。采用这样的清洗装置进行腐蚀后的清洗,由此可以急速地稀释除去残留于光刻胶膜檐部内侧的腐蚀液,因而可以防止开孔尺寸、形状的偏差。
申请公布号 CN1175074A 申请公布日期 1998.03.04
申请号 CN97117133.5 申请日期 1997.07.02
申请人 东芝株式会社 发明人 二阶堂胜;平原祥子;奥土幸男;广泽大二;竹泽洋治
分类号 H01J9/14 主分类号 H01J9/14
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 赵国华
主权项 1.一种荫罩的制造方法,包括如下工序:在具有2个主表面的金属薄板的两个主表面上,形成其至少一面具有与荫罩开口对应的图形的蚀刻保护膜;采用含氯化铁的腐蚀液,对形成有该蚀刻保护膜的金属薄板,进行腐蚀;其特征在于,在该蚀刻工序之后,用对该金属薄板是惰性的腐蚀抑制液,置换洗净该腐蚀液。
地址 日本神奈川