发明名称 用于电容器的金属化膜
摘要 一种薄膜电容器(10),其中的半导体层(24)横穿过非金属化边缘(23),提供了一穿过边缘的电阻通道。该半导体层自身就提供了一在电容器内的并联电阻通道,无需在外部再并联一电阻。它也使穿过边缘的电场产生梯度,即,使得电场更加均匀,从而允许边缘被做得较薄而不会被电击穿,使电容器(10)的物理尺寸的减小成为可能。在金属层(22)和电介质膜(18)间提供了一耐热层(19)、半导体层。耐热(19)层通过将下面的电介质膜与由金属蒸发产生的热隔离开,加速了蒸发并降低了电介质膜碳化的趋势,从而加速了自清净过程。结果是消耗了较少的能量将损伤清净。优选地,耐热层也是半导体的,以降低场发射效应,并由此降低在电介质膜(18)内产生损伤的几率。
申请公布号 CN1175319A 申请公布日期 1998.03.04
申请号 CN95196818.1 申请日期 1995.12.18
申请人 艾罗沃克斯公司;美国托雷塑料制品公司;托雷工业公司 发明人 马丁·赫迪斯;马莫鲁·考比苏;肯吉·哈塔达
分类号 H01G4/00;H01G4/06;H01G4/32;H01G4/33;H01G4/232 主分类号 H01G4/00
代理机构 柳沈知识产权律师事务所 代理人 杨梧
主权项 1.一种用在电容器内的金属化膜,上述的金属化膜包括:一电介质膜;一淀积在电介质膜上的第一金属层,上述的第一金属层足够薄,以便在电介质膜内有损伤产生时,该金属层能够自愈;一沿着电介质膜伸展的非金属化边缘;以及一横跨非金属化边缘伸展的半导体层,从而提供横跨边缘的电阻通道。
地址 美国马萨诸塞州