| 发明名称 |
SUBSTRATE TREATING DEVICE AND SUBSTRATE TREATING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1057877(A) |
申请公布日期 |
1998.03.03 |
| 申请号 |
JP19970126235 |
申请日期 |
1997.05.01 |
| 申请人 |
HITACHI ELECTRON ENG CO LTD |
发明人 |
WADA NORIYA;KENMORI KAZUHIKO;ICHIKAWA HISAYOSHI;MORITA YOSHIO;FUKUDA HIROSHI |
| 分类号 |
B05D1/40;B05C11/08;H01L21/027;H01L21/304;H05K3/06;H05K3/26;(IPC1-7):B05C11/08 |
主分类号 |
B05D1/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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