| 发明名称 |
DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR DE OXIDO DE ESTAÑO SOBRE VIDRIO FLOTADO EN EL BAÑO DE ESTAÑO. |
| 摘要 |
SE PRESENTAN UN METODO Y UN APARATO PARA PRODUCIR UNA PELICULA DE OXIDO DE METAL DE BAJA EMISIVIDAD SOBRE UNA SUPERFICIE DE CRISTAL EN EL INTERIOR DE UNA ATMOSFERA NO OXIDANTE DENTRO DE UN BAÑO QUIMICO.
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| 申请公布号 |
ES2110943(T3) |
申请公布日期 |
1998.03.01 |
| 申请号 |
ES19880115550T |
申请日期 |
1988.09.22 |
| 申请人 |
PPG INDUSTRIES, INC. |
发明人 |
HENERY, VERN ALLAN |
| 分类号 |
C03C17/245;C23C16/40;(IPC1-7):C03C17/245 |
主分类号 |
C03C17/245 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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