支持晶片的方法、移开晶片的方法及静电吸盘装置

摘要

静电吸盘装置2,包括静电吸盘4、用于检测静电吸盘4的温度的温度检测单元10、与静电吸盘4相连且用于施加直流电压到静电吸盘4以使其具有吸引力的电源9,及根据温度检测单元10检测的静电吸盘的温度来控制电源9施加的直流电压值的控制器11。当温度检测单元10检测的静电吸盘4的温度比预设值高时,控制器11使电源9施加的电压值低于预设值;当静电吸盘4的温度比预设值低时,控制器使施加电压高于预设值,因此可将静电吸盘4的吸引力保持为与静电吸盘4的温度变化无关。

主权项

1、一种在静电吸盘上施加直流电压的支持晶片的方法，包括下述步骤：将所述晶片放在所述静电吸盘上；施加直流电压在所述静电吸盘上以使所述静电吸盘具有吸引力；检测所述静电吸盘的温度；及根据已检测的所述静电吸盘的所述温度改变所述直流电压值，控制所述吸引力固定不变。