| 发明名称 |
INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR HAVING FARADAY SPUTTER SHIELD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1055983(A) |
申请公布日期 |
1998.02.24 |
| 申请号 |
JP19970074686 |
申请日期 |
1997.03.12 |
| 申请人 |
VARIAN ASSOC INC |
发明人 |
LAI KWOK FAI;DREWERY JOHN |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C14/34;C23F4/00;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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