发明名称 PROCEDE DE FABRICATION D'UNE ELECTRODE DE CONDENSATEUR POUR UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEURS
摘要 <P>Un procédé de fabrication d'une électrode de stockage, d'un condensateur de stockage, d'une mémoire DRAM permet d'obtenir une structure d'électrode comprenant une couche conductrice en forme de tronc inférieure (26a), une couche conductrice en forme de tronc supérieure (46a) et une couche conductrice en forme de branche (40a), permettant de réaliser un condensateur de type en arbre. La couche en forme de branche a une section transversale en L, avec des parties horizontale et verticale. La couche en forme de tronc inférieure a une section transversale en T et elle est directement en contact avec une région de drain (16a) d'un transistor de transfert.</P>
申请公布号 FR2752487(A1) 申请公布日期 1998.02.20
申请号 FR19970005124 申请日期 1997.04.25
申请人 UNITED MICROELECTRONICS CORPORATION 发明人 CHAO FANG CHING
分类号 H01L21/8242;H01L27/108 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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