A method of implanting ions in semiconductors,申请号GB19960012437-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	A method of implanting ions in semiconductors
摘要
申请公布号	GB2316224(A)	申请公布日期	1998.02.18
申请号	GB19960012437	申请日期	1996.06.14
申请人	* APPLIED MATERIALS INC;* INTEL CORPORATION	发明人	BABAK * ADIBI;MAJEED ALI * FOAD;MITCHELL C * TAYLOR
分类号	C23C14/48;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265	主分类号	C23C14/48
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