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发明名称 Verfahren zur Herstellung von integrierten kapazitiven Strukturen
摘要
申请公布号 DE19631361(A1) 申请公布日期 1998.02.05
申请号 DE19961031361 申请日期 1996.08.02
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 ALLINGER, ROBERT, DIPL.-ING., 82008 UNTERHACHING, DE;BRAUN, HELGA, DR.RER.NAT., 81545 MUENCHEN, DE;KERBER, MARTIN, DR.RER.NAT., 81827 MUENCHEN, DE;MATTAUSCH, HANS JUERGEN, DR.RER.NAT., 85649 BRUNNTHAL, DE
分类号 H01L21/8247;H01L21/02;H01L21/8242;H01L27/108;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/823;H01G4/40;H01L21/824;H01L21/326 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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