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发明名称 MAGNETRON SOURCE AND PLASMA TREATING SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH1030180(A) 申请公布日期 1998.02.03
申请号 JP19970091021 申请日期 1997.04.09
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 HUO DAVID DATONG
分类号 C23C14/35;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):C23C14/35 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
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