| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING A SEMICONDUCTOR LAYER OF SiC COMPRISING A MASKING STEP |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0820642(A1) |
申请公布日期 |
1998.01.28 |
| 申请号 |
EP19960910270 |
申请日期 |
1996.04.09 |
| 申请人 |
ABB RESEARCH LTD. |
发明人 |
HARRIS, CHRISTOPHER;KONSTANTINOV, ANDREI;JANZEN, ERIK |
| 分类号 |
H01L21/22;H01L21/04;H01L21/265;H01L21/318;H01L29/24;H01L29/861;(IPC1-7):H01L21/318;H01L21/266 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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